授業の目的 【日本語】
Goals of the Course(JPN) | | ナノエレクトロニクス、ナノフォトニクス、バイオナノテクノロジーの基礎とするため、ナノプロセスの原理と実際の応用例を学ぶことを目的とする。具体的には、先端シリコンデバイスを可能としているトップダウン型の微細加工技術、薄膜堆積技術、表界面制御技術と共に、ナノ材料プロセスなど近年、発達しているボトムアップ型手法の原理と応用例も学ぶ。また、ナノプロセスやナノ構造体を原子レベルで解析し、理解するための表界面計測技術の基礎から、大規模放射光施設を用いた最先端計測技術の動向についても習得する。この授業では、受講者が授業終了時に、以下の知識・能力を身につけていることを目標とする。
１．適切な原子・分子反応制御手法を用いて、ナノプロセスを設計できる。
２．先端デバイス・プロセスの動向と技術的課題を理解し、説明できる。
３．ナノデバイスおよびナノ材料の原子レベルでの構造解析が出来る。 |
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授業の目的 【英語】
Goals of the Course | | The purpose of this course is to study the principles of nano-processes and practical applications in order to form the basis of nanoelectronics, nanophotonics and bio-nanotechnology. Specifically, students learn not only top-down nanofabrication techniques, such as etching, thin film deposition and, surface and interface control techniques, which enable the advanced silicon devices, but also nano-materials processes developing in recent years. Atomic-level analyzing techniques of nanostructures and experiments using synchrotron radiation are also lectured.
In this lesson, the goal is for students to have the following knowledge and skills at the end of the lesson.
#1. Nanoprocesses can be designed using the appropriate atomic / molecular reaction control techniques.
#2. Understand and explain trends and technological issues in advanced devices and processes.
#3. Atomic level structural analysis of nanodevices and nanomaterials can be performed. |
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到達目標 【日本語】
Objectives of the Course(JPN)) | | ナノエレクトロニクス、ナノフォトニクス、バイオナノテクノロジーの基礎とするため、ナノプロセスの原理と実際の応用例を学ぶことを目的とする。具体的には、先端シリコンデバイスを可能としているトップダウン型の微細加工技術、薄膜堆積技術、表界面制御技術と共に、ナノ材料プロセスなど近年、発達しているボトムアップ型手法の原理と応用例も学ぶ。また、ナノプロセスやナノ構造体を原子レベルで解析し、理解するための表界面計測技術の基礎から、大規模放射光施設を用いた最先端計測技術の動向についても習得する。この授業では、受講者が授業終了時に、以下の知識・能力を身につけていることを目標とする。
１．適切な原子・分子反応制御手法を用いて、ナノプロセスを設計できる。
２．先端デバイス・プロセスの動向と技術的課題を理解し、説明できる。
３．ナノデバイスおよびナノ材料の原子レベルでの構造解析が出来る。 |
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到達目標 【英語】
Objectives of the Course | | The purpose of this course is to study the principles of nano-processes and practical applications in order to form the basis of nanoelectronics, nanophotonics and bio-nanotechnology. Specifically, students learn not only top-down nanofabrication techniques, such as etching, thin film deposition and, surface and interface control techniques, which enable the advanced silicon devices, but also nano-materials processes developing in recent years. Atomic-level analyzing techniques of nanostructures and experiments using synchrotron radiation are also lectured.
In this lesson, the goal is for students to have the following knowledge and skills at the end of the lesson.
#1. Nanoprocesses can be designed using the appropriate atomic / molecular reaction control techniques.
#2. Understand and explain trends and technological issues in advanced devices and processes.
#3. Atomic level structural analysis of nanodevices and nanomaterials can be performed. |
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バックグラウンドとなる科目【日本語】
Prerequisite Subjects | | |
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バックグラウンドとなる科目【英語】
Prerequisite Subjects | | | Semiconductor engineering, Plasma engineering, Solid-state physics |
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授業の内容【日本語】
Course Content | | １．原子、分子、ラジカル反応場の基礎
２．原子、分子操作技術
３．最先端デバイスプロセス(ULSI、量子コンピュータ、ナノバイオデバイス、フォトニックデバイス）
４．プラズマナノプロセス
５．自己組織化プロセス
６．ナノ反応場計測技術
前回の授業内容を復習し、各プロセスの原理を理解すること。 |
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授業の内容【英語】
Course Content | | 1. Fundamentals of reaction fields with atoms, molecules and radicals,
2. Control techniques of atoms and molecules
3. Advanced device processes for ULSI, Quantum computer, Nano-Bio devices, Photonic devices)
4. Plasma nano-processes
5. Self-organization techniques
6. Measuring techniques of nano-reaction fields
Review the contents of the previous lesson and understand the principles of each process. |
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成績評価の方法と基準【日本語】
Course Evaluation Method and Criteria | | レポートによって目標達成度を評価する。ナノプロセスの原理と特徴を正しく理解し、論じていることを最低限の合格基準とする。
成績評価基準は以下のとおりとし、100点満点で60点以上を合格とする。
〈２０２０年度以降入学者〉
100～95点：Ａ＋，94～80点：Ａ，79～70点：Ｂ，69～65点：Ｃ，64～60点：Ｃ－，59点以下：Ｆ
〈２０１９年度以前入学者〉
100～90点：Ｓ，89～80点：Ａ，79～70点：Ｂ，69～60点：Ｃ，59点以下：Ｆ |
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成績評価の方法と基準【英語】
Course Evaluation Method and Criteria | | Goal attainment levels are examined by reports. The minimum acceptance criterion is to correctly understand and discuss the principles and characteristics of nanoprocesses.
The grade evaluation criteria are as follows, and a score of 60 or more out of 100 is considered acceptable.
Students enrolled in or after the 2020 school year:
100~95: A+, 94~80: A, 79~70: B，69~65: C, 64~60: C-, 59~0: F
Students enrolled in or before the 2019 school year:
100~90: S, 89~80: A, 79~70: B，69~60: C, 59~0: F |
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履修条件・注意事項【日本語】
Course Prerequisites / Notes | | | バックグラウンドとなる科目の幾つかを履修済みであることが望ましいが、未履修でも受講可能。 |
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履修条件・注意事項【英語】
Course Prerequisites / Notes | | | It is better that you have already taken some of the prerequisite subjects, but you can take this class even if you have not taken them. |
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教科書【日本語】
Textbook | | |
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教科書【英語】
Textbook | | | Materials will be distributed as needed. |
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参考書【日本語】
Reference Book | | |
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参考書【英語】
Reference Book | | | References will be provided as needed. |
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授業時間外学習の指示【日本語】
Self-directed Learning Outside Course Hours | | |
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授業時間外学習の指示【英語】
Self-directed Learning Outside Course Hours | | |
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使用言語【英語】
Language used | | |
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使用言語【日本語】
Language used | | |
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授業開講形態等【日本語】
Lecture format, etc. | | |
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授業開講形態等【英語】
Lecture format, etc. | | |
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遠隔授業（オンデマンド型）で行う場合の追加措置【日本語】
Additional measures for remote class (on-demand class) | | |
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遠隔授業（オンデマンド型）で行う場合の追加措置【英語】
Additional measures for remote class (on-demand class) | | |
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