授業の目的 【日本語】 Goals of the Course(JPN) | | 学部で学習したプラズマ工学を基礎として,プラズマの振舞、プラズマと固体との相互作用およびプラズマ応用について理解を深めることを目的とする. 達成目標 1 プラズマの基礎方程式を理解し、説明できる。 2 プラズマの輸送および拡散を理解し、説明できる。 3 種々のプラズマ源の原理およびプラズマ加熱過程を理解し、説明できる。 4 種々のプラズマ応用を理解し、説明できる。 授業終了時に学生はプラズマ生成装置の構成および内部の物理過程をわかりやすく説明できる |
|
|
授業の目的 【英語】 Goals of the Course | | Plasma dynamics, plasma-surface interactions and plasma application to materials processing are lectured with basic knowledge on plasma engineering given in undergraduate course. Purpose of this lecture is that students can explain configuration of the plasma sources and can explain the physics occuring in the plasma. |
|
|
到達目標 【日本語】 Objectives of the Course(JPN)) | | 学部で学習したプラズマ工学を基礎として,プラズマの振舞、プラズマと固体との相互作用およびプラズマ応用について理解を深めることを目的とする. 達成目標 1 プラズマの基礎方程式を理解し、説明できる。 2 プラズマの輸送および拡散を理解し、説明できる。 3 種々のプラズマ源の原理およびプラズマ加熱過程を理解し、説明できる。 4 種々のプラズマ応用を理解し、説明できる。 授業終了時に学生はプラズマ生成装置の構成および内部の物理過程をわかりやすく説明できる |
|
|
到達目標 【英語】 Objectives of the Course | | Plasma dynamics, plasma-surface interactions and plasma application to materials processing are lectured with basic knowledge on plasma engineering given in undergraduate course. Purpose of this lecture is that students can explain configuration of the plasma sources and can explain the physics occuring in the plasma. |
|
|
バックグラウンドとなる科目【日本語】 Prerequisite Subjects | | |
|
バックグラウンドとなる科目【英語】 Prerequisite Subjects | | Plasma Engineering, Electromagnetic Theory with Exercises 1,2. |
|
|
授業の内容【日本語】 Course Content | | 1.粒子間衝突 2.プラズマの基礎方程式 3.プラズマ動態 4.拡散と輸送 5.シース 6.プラズマ源1(容量結合型プラズマ) 7.プラズマ源2(誘導結合型プラズマ) 8.プラズマ源3(電磁波動によるプラズマ生成) 9.プラズマ応用 1(プラズマ気相成長) 10.プラズマ応用 2(プラズマエッチング) 毎回の授業前に教科書各章の練習問題に取り組む |
|
|
授業の内容【英語】 Course Content | | 1. Particle Collisions: 2. Basic Equations for Plasma: 3. Plasma Kinetics: 4. Diffusion and Transport: 5. Sheath: 6. Plasma Source 1 (Capacitively coupled plasma): 7. Plasma Source 2 (Inductively coupled plasma): 8. Plasma Source 3 (Wave-generated plasma): 9. Plasma application (Plasma CVD) 10. Plasma application (Plasma etching) |
|
|
成績評価の方法と基準【日本語】 Course Evaluation Method and Criteria | | 達成目標に対する評価の重みは同等である。:レポート20%と試験80%により評価し、C-評定以上を合格とする。 下記の内容について適切に説明できることを合格の基準とする。 1 プラズマの基礎方程式を理解し、説明できる。 2 プラズマの輸送および拡散を理解し、説明できる。 3 種々のプラズマ源の原理およびプラズマ加熱過程を理解し、説明できる。 4 種々のプラズマ応用を理解し、説明できる。 |
|
|
成績評価の方法と基準【英語】 Course Evaluation Method and Criteria | | |
|
履修条件・注意事項【日本語】 Course Prerequisites / Notes | | 履修条件は要さない ・授業は主に対面とし遠隔(オンデマンド型)も実施予定である。遠隔授業は NUCT で行う。 ・オンデマンド型の授業日における教員への質問は,原則として授業時間内にNUCT 機能「メッセージ」により行うこと。その際はccにてメールアドレスへの送付も忘れないこと。 ・授業に関する受講学生間の意見交換は,NUCT 機能「メッセージ」により行うこと。 |
|
|
履修条件・注意事項【英語】 Course Prerequisites / Notes | | |
|
教科書【日本語】 Textbook | | 菅井秀郎編著「プラズマエレクトロニクス」:(オーム社) |
|
|
教科書【英語】 Textbook | | Hideo Sugai, Plasma Electronics (Ohmsha, 2000) |
|
|
参考書【日本語】 Reference Book | | M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (John Wiley & Sons, Inc., 1994):F. F. Chen and J. P. Chang, Lecture Notes on Principles of Plasma Processing (Kluwer Academic/ Plenmum Publishers,2003) |
|
|
参考書【英語】 Reference Book | | M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (John Wiley & Sons, Inc., 1994):F. F. Chen and J. P. Chang, Lecture Notes on Principles of Plasma Processing (Kluwer Academic/ Plenmum Publishers,2003) |
|
|
授業時間外学習の指示【日本語】 Self-directed Learning Outside Course Hours | | |
|
授業時間外学習の指示【英語】 Self-directed Learning Outside Course Hours | | |
|
使用言語【英語】 Language used | | |
|
使用言語【日本語】 Language used | | |
|
授業開講形態等【日本語】 Lecture format, etc. | | |
|
授業開講形態等【英語】 Lecture format, etc. | | |
|
遠隔授業(オンデマンド型)で行う場合の追加措置【日本語】 Additional measures for remote class (on-demand class) | | |
|
遠隔授業(オンデマンド型)で行う場合の追加措置【英語】 Additional measures for remote class (on-demand class) | | |
|